真空系统气体成分实时监测,适用于半导体制造、科研真空系统。
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采用全金属不锈钢材质作为质谱腔体,腔体最高温度可到200°C,无油隔膜泵与高性能,涡轮分子泵提供真空环境,配备全量程真空规支持实时掌握仪器真空状态。